Главная страница » Блог » Технологические новости​ » Китай создал компактный лазер для производства чипов будущего

Китай создал компактный лазер для производства чипов будущего

Ученые из КНР представили кристалл ABF, который позволяет создавать мощные лазеры вакуумного ультрафиолета размером с настольный прибор. Раньше для таких лучей требовались огромные установки размером с комнату.

Новинка выдает рекордную длину волны — 158,9 нм. Это критически важно для литографии и контроля качества новейших процессоров. Даже гигант ASML в свое время не смог довести подобную технологию до ума. Теперь сверхточная обработка материалов станет дешевле и доступнее. На мой взгляд, это мощный козырь Китая в гонке за независимость в производстве полупроводников.

Оставьте комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Прокрутить вверх