Это та самая новость, от которой у инженеров ASML дергается глаз.
В Китае собрали прототип EUV-фотолитографа — той самой адской машины, без которой невозможно делать современные чипы. Разработкой занимались бывшие инженеры ASML, а основным инструментом стал реверс-инжиниринг голландских установок.
Что реально получилось
• EUV-излучение генерируется — самый сложный этап пройден
• Прототип рабочий на уровне физики — это уже не макет и не симуляция
• Чипы пока не выходят — установка не способна стабильно печатать рабочие кристаллы
Почему это важно
EUV — это не один станок, а тысячи сверхточных подсистем. Оптика, вакуум, плазма, софт, контроль дефектов. ASML шла к этому десятилетиями. Китай пытается перепрыгнуть пропасть за считанные годы.
Мнение Техногида
Это еще не победа, но и не фейк. Сделать EUV, который светит — адски сложно. Сделать EUV, который массово печатает чипы — это уже инженерный ад следующего уровня. Но если Китай доведет эту штуку до ума, рынок полупроводников тряхнет так, что санкции начнут выглядеть как временная задержка.
Как думаешь, это тупиковый эксперимент или начало конца монополии ASML 👇
